Method of processing light sensitive planographic printing plate precursor

   
   

Disclosed is a method of processing a light sensitive planographic printing plate precursor comprising a support, and provided thereon, a photopolymerizable light sensitive layer and an overcoat layer in that order, the method comprising the steps of imagewise exposing the light sensitive planographic printing plate precursor, pre-washing the exposed light sensitive planographic printing plate precursor with washing water, and developing the pre-washed light sensitive planographic printing plate precursor with a developer containing an alkali metal-containing compound, wherein the pre-washing step comprises first washing the exposed light sensitive planographic printing plate precursor with a first water being water which has been used at least one time for washing the exposed light sensitive planographic printing plate precursor, and then washing the resulting precursor with a second water being fresh water which has not been used before for washing the exposed light sensitive planographic printing plate precursor.

Onthuld wordt een methode om een lichte gevoelige planografische drukplaatvoorloper te verwerken bestaand uit een steun, en daarop verstrekt, uit een photopolymerizable lichte gevoelige laag en uit een overjaslaag in die orde, de methode bestaand uit de stappen van beeldsgewijs het belichten van de lichte gevoelige planografische drukplaatvoorloper, die de blootgestelde lichte gevoelige planografische drukplaatvoorloper voorwast met het wassen van water, en het ontwikkelen van de voorgewassen lichte gevoelige planografische drukplaatvoorloper met een ontwikkelaar die een alkali metaal-bevattende samenstelling bevat, waarin de voorwassende stap uit eerste was de blootgestelde lichte gevoelige planografische drukplaatvoorloper met een eerste water bestaat dat water is dat minstens één keer voor het wassen van de blootgestelde lichte gevoelige planografische drukplaatvoorloper is gebruikt method comprising the steps of imagewise exposing the light sensitive planographic printing plate precursor, pre-washing the exposed light sensitive planographic printing plate precursor with washing water, and developing the pre-washed light sensitive planographic printing plate precursor with a developer containing an alkali metal-containing compound, wherein the pre-washing step comprises first washing the exposed light sensitive planographic printing plate precursor with a first water being water which has been used at least one time for washing the exposed light sensitive planographic printing plate precursor, and then washing the resulting voorloper met een tweede water dat zoet water is dat niet voordien voor het wassen van de blootgestelde lichte gevoelige planografische drukplaatvoorloper is gebruikt.

 
Web www.patentalert.com

< Golf balls incorporating nanocomposite materials

< Method for recycling the resin mold

> Polymers, resist compositions and patterning process, novel tetrahydrofuran compounds and their preparation

> Low abosorbing resists for 157 nm lithography

~ 00133