The present invention relates to cyclic polymers and their use in
photolithographic applications. The cyclic polymers contain a pendant acid
labile functional group and a functional group containing a protected
hydroxyl moiety. The polymers are post modified by deprotecting the
pendant hydroxyl moiety and reacting the deprotected hydroxyl containing
moiety with a coreactant. The post-functionalized polymers find
application in chemically amplified photoresist compositions.
A invenção atual relaciona-se aos polímeros cíclicos e ao seu uso em aplicações photolithographic. Os polímeros cíclicos contêm um grupo funcional labile ácido pendant e um grupo funcional que contêm um moiety protegido do hydroxyl. Os polímeros são borne modificado deprotecting o moiety pendant do hydroxyl e reagir deprotected o hydroxyl que contem o moiety com um coreactant. A aplicação do achado dos polímeros do borne-functionalized em composições quimicamente amplificadas do photoresist.
