A deposition system for depositing a chemical vapor onto a workpiece,
including a deposition chamber having a plurality of components for
performing chemical vapor deposition on the workpiece. The deposition
chamber includes an inner skin made of Hasteloy for sealing the plurality
of components and the workpiece from the air surrounding the deposition
system, and an outer skin that encloses the inner skin and is separated
from the inner skin by an air gap. The outer skin includes vents that
create a convection current in the air gap between the inner skin and
outer skin of the deposition chamber. The deposition system also has a gas
panel for regulating the flow of gases and vapors into the deposition
chamber, and a computer for controlling operation of the gas panel and the
components in the deposition chamber.
Un système de dépôt pour déposer une vapeur chimique sur un objet, y compris une chambre de dépôt ayant une pluralité de composants pour effectuer la déposition en phase vapeur sur l'objet. La chambre de dépôt inclut une peau intérieure faite en Hasteloy pour sceller la pluralité de composants et de l'objet à partir de l'air entourant le système de dépôt, et une peau externe qui enferme la peau intérieure et est séparée de la peau intérieure par un espace d'air. La peau externe inclut les passages qui créent un courant de convection dans l'espace d'air entre la peau intérieure et la peau externe de la chambre de dépôt. Le système de dépôt a également un écran à plasma pour régler l'écoulement des gaz et des vapeurs dans la chambre de dépôt, et un ordinateur pour l'opération de service de l'écran à plasma et les composants dans la chambre de dépôt.
