The negative resist composition comprises (1) a film-forming polymer which
is itself soluble in basic aqueous solutions, and contains a first monomer
unit with an alkali-soluble group in the molecule and a second monomer
unit with an alcohol structure on the side chain which is capable of
reacting with the alkali-soluble group, and (2) a photo acid generator
which, when decomposed by absorption of image-forming radiation, is
capable of generating an acid that can induce reaction between the alcohol
structure of the second monomer unit and the alkali-soluble group of the
first monomer unit, or protect the alkali-soluble group of the first
monomer unit. The resist composition can form intricate negative resist
patterns with practical sensitivity and no swelling.
Ο αρνητικός αντιστέκεται στη σύνθεση περιλαμβάνει (1) ένα film-forming πολυμερές σώμα που είναι ο ίδιος διαλυτό στα βασικά διαλύματα ύδατος, και περιέχει μια πρώτη μονάδα μονομερών με μια διαλυτοη σε αλκαλικό διάλυμα ομάδα στο μόριο και μια δεύτερη μονάδα μονομερών με μια δομή οινοπνεύματος στην πλευρική αλυσίδα που είναι σε θέση με τη διαλυτοη σε αλκαλικό διάλυμα ομάδα, και (2) μια όξινη γεννήτρια φωτογραφιών που, όταν αποσυντίθεται από την απορρόφηση της εικόνα-διαμόρφωσης της ακτινοβολίας, είναι σε θέση ένα οξύ που μπορεί να προκαλέσει την αντίδραση μεταξύ της δομής οινοπνεύματος της δεύτερης μονάδας μονομερών και της διαλυτοης σε αλκαλικό διάλυμα ομάδας της πρώτης μονάδας μονομερών, ή να προστατεύσει τη διαλυτοη σε αλκαλικό διάλυμα ομάδα της πρώτης μονάδας μονομερών. Αντισταθείτε στη σύνθεση μπορεί να διαμορφώσει περίπλοκο αρνητικό αντιστέκεται στα σχέδια με την πρακτική ευαισθησία και καμία διόγκωση.
