Reticle defect printability verification by resist latent image comparison

   
   

One aspect of the present invention relates to a system and method for detecting defects on a reticle by inspecting latent images printed on a resist wafer by the reticle. The system includes a wafer having a printed photoresist layer formed thereon, a latent image inspection system connected to the wafer exposure system for examining the printed photoresist layer in order to determine whether a reticle employed to print the photoresist layer is defective, and a processor for receiving data from the inspection system in order to verify the presence of defects on the reticle. The method involves printing a first latent image, a second latent image, and a third latent image on a resist wafer using a reticle, and comparing the three latent images to one another to determine whether the reticle is defective. Comparison of the latent images may be facilitated by employing an optical system programmed to perform such comparisons.

Één aspect van de onderhavige uitvinding heeft op een systeem betrekking en de methode om tekorten op een dradenkruis te ontdekken door latente beelden te inspecteren die op worden gedrukt verzet zich tegen wafeltje door het dradenkruis. Het systeem omvat een wafeltje dat een gedrukte photoresist daarop gevormde laag heeft, een systeem van de latent beeldinspectie dat aan het systeem van de wafeltjeblootstelling om de gedrukte photoresist laag wordt aangesloten te onderzoeken om te bepalen of een dradenkruis dat wordt aangewend om de photoresist laag te drukken, en een bewerker voor het ontvangen van gegevens van het inspectiesysteem om de aanwezigheid van tekorten op het dradenkruis te verifiëren gebrekkig is. De methode houdt de druk van een eerste latent beeld, een tweede latent beeld in, en een derde latent beeld op verzet zich tegen wafeltje gebruikend een dradenkruis, en elkaar vergelijkend de drie latente beelden aan om te bepalen of het dradenkruis gebrekkig is. De vergelijking van de latente beelden kan worden vergemakkelijkt door een optisch systeem aan te wenden dat wordt geprogrammeerd om dergelijke vergelijkingen uit te voeren.

 
Web www.patentalert.com

< High resolution detector for X-ray imaging

< Radiation detector arrangement

> Moisture and density detector (MDD)

> Active matrix substrate, method of manufacturing the same, and image sensor incorporating the same

~ 00128