Comprising a first step of supporting a substrate formed with a
scintillator on at least three protrusions of a target-support element
disposed on a vapor deposition table so as to keep a distance from said
vapor deposition table; a second step of introducing said vapor deposition
table having said substrate supported by said target-support element into
a vapor deposition chamber of a CVD apparatus; and a third step of
depositing an organic film by CVD method onto all surfaces of said
substrate, provided with said scintillator, introduced into said vapor
deposition chamber.
Состоять из первыйа шаг поддерживать субстрат сформировал с scintillator на по крайней мере 3 выступаниях цел-podderjivaet элемент размещанный на таблице низложения пара для того чтобы держать расстояние от сказанной таблицы низложения пара; второй шаг вводить сказал таблица низложения пар говоря субстрат поддержанный сказанным цел-podderjivaet элемент в камеру низложения пара прибора cvd; и третий шаг депозировать органическую пленку методом CVD на все поверхности сказанного субстрата, при условии при сказанное scintillator, введенное в сказанную камеру низложения пара.
