This invention relates to a method and apparatus for cleaning solid
surfaces like Si substrate, disk or magnetic head slider where
contaminants, including organic contaminants, especially particles in the
micron or sub-micron scale are effectively remove from the solid surfaces.
The invention achieves this by generating a strong laser-induced liquid
jet and shock wave near the solid surfaces immersed in liquid. The liquid
is a solution of water and other solvents to help reduce adhesion force
and enhance cleaning efficiency.
Questa invenzione riguarda un metodo e gli apparecchi per le superfici solide di pulizia come il substrato del silicone, il disc o il cursore capo magnetico in cui gli agenti inquinanti, compreso gli agenti inquinanti organici, particolarmente le particelle nel micron o la scala sub-micron sono efficacemente rimuovono dalle superfici solide. L'invenzione realizza questa generando un'onda liquida laser-indotta forte di scossa e del getto vicino alle superfici solide immerse in liquido. Il liquido รจ una soluzione di acqua e di altri solventi da contribuire a ridurre la forza di adesione ed ad aumentare l'efficienza di pulizia.
