Anionic abrasive particles treated with positively charged polyelectrolytes for CMP

   
   

The invention provides a chemical-mechanical polishing systems, and methods of polishing a substrate using the polishing systems, comprising (a) an abrasive, (b) a liquid carrier, and (c) a positively charged polyelectrolyte with a molecular weight of about 15,000 or more, wherein the abrasive comprises particles that are electrostatically associated with the positively charged electrolyte.

Вымысел обеспечивает химикат-mexaniceski полируя системы, и методы полировать субстрат использующ полируя системы, состоя из (a) абразива, (b) жидкостной несущей, и (c) положительн порученного полиэлектролита с молекулярным весом около 15.000 или больше, при котором абразив состоит из частиц которые электростатически связаны с положительн порученным электролитом.

 
Web www.patentalert.com

< Memory device and method of making

< Dye-sensitized photoelectric conversion device

> Adhesive composition

> Pesticidal matrices

~ 00126