Methods of correcting for overlay error, wherein the methods account for
relative offset across the field of exposures of more than one
photolithography projection system, as well as systems to perform the
methods and apparatus produced therefrom. The methods include defining at
least two zones within a field of a mask having substantially similar
overlay error values. The methods further include modifying the
coordinates of a feature of the mask in response to a correction for the
zone to which the feature is mapped, where the correction corresponds to a
nominal overlay error value for that zone.
Методы исправляться для ошибки верхнего слоя, при котором методы определяют родственник возмещенный через поле выдержек больше чем одной системы проекции фотолитографии, также,как системы для того чтобы выполнить методы и прибор произвели therefrom. Методы вклюают определять по крайней мере 2 зоны внутри поле маски имея существенн подобные значения ошибки верхнего слоя. Методы более дальнейшие вклюают дорабатывать координаты характеристики маски in response to коррекция для зоны к характеристика составлена карту, где коррекция соответствует к штатному значению ошибки верхнего слоя для той зоны.
