Charged-particle beam exposure apparatus and device manufacturing method using the same

   
   

An exposure apparatus for drawing a pattern on a wafer using an electron beam includes a plurality of driving elements for drawing the pattern on the wafer while scanning the wafer with a charged-particle beam, a plurality of driving data memories for storing a plurality of time-series driving data strings for driving the plurality of driving elements, each driving data memory sequentially supplying data forming the time-series driving data string from the first data to a corresponding driving element in accordance with an operation command, and a clock pattern memory for storing a plurality of operation command data strings obtained by aligning operation commands and non-operation commands in time-series, the operation commands and the non-operation commands constituting each operation command data string being sequentially supplied from the first operation command data to a corresponding driving data memory in accordance with a drawing sync clock supplied to the clock pattern memory.

Um instrumento de exposição para extrair um teste padrão em um wafer que usa um feixe de elétron inclui um plurality de dirigir elementos para extrair o teste padrão no wafer ao fazer a varredura do wafer com um feixe da carreg-partícula, um plurality de dirigir memórias dos dados para armazenar um plurality do time-series que dirige cordas dos dados para dirigir o plurality de dirigir elementos, cada memória dirigindo dos dados que fornecem sequencialmente os dados que dão forma ao time-series que dirige a corda dos dados dos primeiros dados a um elemento dirigindo correspondente de acordo com um comando da operação, e uma memória do teste padrão do pulso de disparo para armazenar um plurality das cordas dos dados do comando da operação obtidas alinhando comandos da operação e comandos do non-operation nos time-series, a operação comanda e o non-operation comanda constituindo cada dados do comando da operação amarre sequencialmente ser fornecido dos primeiros dados do comando da operação a uma memória dirigindo correspondente dos dados de acordo com um pulso de disparo extraindo da sincronização fornecido à memória do teste padrão do pulso de disparo.

 
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< Image processor for processing reservation and information processor for requesting reservation

< Speech information processing method and apparatus and storage medium

> Electrification moderating film, electron beam system, image forming system, member with the electrification moderating film, and manufacturing method of image forming system

> PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS IN WHICH THE CONTACT WIDTH OF A DEVELOPER CHARGER WITH AN IMAGE BEARING MEMBER IS GREATER THAN OR EQUAL TO THE SUM OF THE DEVELOPING WIDTH OF DEVELOPING MEANS AND THE WIDTH OF MOVEMENT OF THE DEVELOPER CHARGER

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