A projection exposure apparatus includes an illumination optical system for
illuminating a reticle having a pattern, with illumination light supplied
from a light source, a projection optical system for projecting the
pattern onto a substrate by use of the illumination light, a measuring
system for measuring angular distribution of the illumination light, and
an adjusting system for changing angular distribution of the illumination
light, entering the projection optical system, on the basis of measurement
by the measuring system and in accordance with a distance from an optical
axis.
Un aparato de exposición de la proyección incluye un sistema óptico de la iluminación para iluminar un retículo que tiene un patrón, con la luz de la iluminación provista de una fuente de luz, de un sistema óptico de la proyección para proyectar el patrón sobre un substrato por medio de la luz de la iluminación, de un sistema que mide para medir la distribución angular de la luz de la iluminación, y de un sistema de ajuste para cambiar la distribución angular de la luz de la iluminación, incorporando el sistema óptico de la proyección, en base de la medida por el sistema que mide y de acuerdo con una distancia de un eje óptico.
