A photosolder resist composition of the invention is characterized by
containing (A) a resin containing radical polymerization groups and
carboxyl groups obtained by adding a cyclic ether group of a cyclic ether
group-containing vinyl monomer to a carboxylic group of a radical
copolymer containing at least isobornyl (meth) acrylate and a carboxyl
group-containing vinyl monomer as monomer units; (B) an inorganic filler;
and (C) a photocurable mixture of a polyfunctional acrylic monomer (c1), a
cyclic ether group-containing compound (c2), and a photopolymerization
initiator (c3).
Ένα photosolder αντιστέκεται στη σύνθεση της εφεύρεσης χαρακτηρίζεται από τον περιορισμό (A) μιας ρητίνης που περιέχει τις ριζικές ομάδες πολυμερισμού και τις καρβοξυλικές ομάδες που λαμβάνονται με την προσθήκη μιας κυκλικής ομάδας αιθέρα ενός κυκλικού ομάδα-περιέχοντας βινυλίου μονομερούς αιθέρα σε μια καρβοξυλική ομάδα ριζικό copolymer που περιέχει τουλάχιστον το ακρυλάτη isobornyl (meth) και ενός καρβοξυλικού ομάδα-περιέχοντας βινυλίου μονομερούς ως μονάδες μονομερών (B) ένα ανόργανο υλικό πληρώσεως και (C) ένα photocurable μίγμα ενός ακρυλικού μονομερούς polyfunctional (c1), μιας κυκλικής ομάδα-περιέχοντας ένωσης αιθέρα (c2), και ενός ιδρυτή photopolymerization (c3).
