Method for manufacturing an optical device with a defined total device stress

   
   

A method for manufacturing an optical device with a defined total device stress, birefringence and optical polarization dependence is disclosed. The method comprises first providing a tower cladding layer of an amorphous material with a first refractive index and then providing above the lower cladding layer an upper cladding layer of an amorphous material with a second refractive index. An optical waveguide core comprising an amorphous material having a third refractive index (larger than the first refractive index and the second refractive index) is provided between the lower and the upper cladding layers. The upper cladding layer is thermally annealed by keeping the upper cladding layer at a first temperature, then raising the temperature to a second temperature, maintaining the second temperature for an annealing time period, and lowering the temperature to a third temperature, after which the temperature is lowered to a fourth temperature.

Une méthode pour fabriquer un circuit optique avec un effort total défini de dispositif, une biréfringence et une dépendance optique de polarisation est révélée. La méthode comporte fournir d'abord à une couche de revêtement de tour d'un matériel amorphe un premier indice de réfraction et fournir ensuite au-dessus de la couche inférieure de revêtement par couche supérieure de revêtement d'un matériel amorphe en deuxième indice de réfraction. Un noyau optique de guide d'ondes comportant un matériel amorphe ayant un troisième indice de réfraction (plus grand que le premier indice de réfraction et le deuxième indice de réfraction) est fourni entre les couches inférieures et de haut de revêtement. La couche supérieure de revêtement est thermiquement recuite en gardant la couche supérieure de revêtement à une première température, alors soulevant la température à une deuxième température, maintenant la deuxième température pendant une période de temps de recuit, et abaissant la température à une troisième température, après quoi la température est abaissée à une quatrième température.

 
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