A fast method simulates photolithography using conventional image
processing techniques. Convolution simulates for blurring; erosion and
dilation correct for edge diffraction. In one technique, the source image
of the photomask is deconvolved to sharpen it and then dilated to remove
edge diffraction. The image is eroded, and then convolved according to the
resolution of the stepper at the photomask plane. This aerial image can be
further eroded to match the effects of resist and developing. Optional
thresholding is done to produce a simulated processed wafer image. In a
fast technique, the deconvolution step is eliminated. Dilation and erosion
are combined into a single erosion. Where a phase shift mask is involved,
a complex convolution is used. Source data can come from the photomask
electronic design or from a visual image of the actual photomask.
Optimizations include: special microprocessor instructions, floating point
pixel values, separable convolution and annular illumination simulation.
Een snelle methode simuleert fotolithografie gebruikend de conventionele technieken van de beeldverwerking. De winding simuleert voor het vertroebelen; erosie en uitzetting correct voor randdiffractie. In één techniek, het bronbeeld van photomask deconvolved is om het te scherpen en toen uitzette om randdiffractie te verwijderen. Het beeld wordt geërodeerd, en convolved toen volgens de resolutie van stepper bij het photomaskvliegtuig. Dit luchtbeeld kan verder worden geërodeerd om de gevolgen van aan te passen verzet tegenzich en zich ontwikkelt. Facultatieve thresholding wordt gedaan een gesimuleerd verwerkt wafeltjebeeld veroorzaken. In een snelle techniek, wordt de het ontrollenstap overbodig gemaakt. De uitzetting en de erosie worden gecombineerd in één enkele erosie. Waar een masker van de faseverschuiving geïmpliceerd is, wordt een complexe winding gebruikt. De bron gegevens kunnen uit het photomask elektronische ontwerp of uit een visueel beeld van daadwerkelijke photomask komen. De optimalisering omvatten: speciale microprocessorinstructies, het drijven de waarden van het puntpixel, scheidbare winding en ringvormige verlichtingssimulatie.
