The present invention provides an excimer laser capable of producing a high
quality pulsed laser beam at pulse rates of about 4,000 Hz at pulse
energies of about 5 mJ or greater. A preferred embodiment is an ArF
excimer laser specifically designed as a light source for integrated
circuit lithography. An improved wavemeter with special software monitors
output beam parameters and controls a very fast PZT driven tuning mirror
and the pulse power charging voltage to maintain wavelength and pulse
energy within desired limits. In a preferred embodiment two fan motors
drive a single tangential fan which provides sufficient gas flow to clear
discharge debris from the discharge region during the approximately 0.25
milliseconds between pulses.
A invenção atual fornece um laser do excimer capaz de produzir uma qualidade elevada pulsou feixe de laser em taxas de pulso de aproximadamente 4.000 hertz em energias do pulso do mJ aproximadamente 5 ou mais grande. Uma incorporação preferida é um laser do excimer de ArF projetado especificamente como uma fonte clara para o lithography do circuito integrado. Um wavemeter melhorado com software especial monitora parâmetros do feixe da saída e controla um espelho ajustando dirigido PZT muito rápido e a tensão carregando do poder do pulso para manter a energia do wavelength e do pulso dentro dos limites desejados. Em uma incorporação preferida dois motores de ventilador dirigem um único ventilador tangential que forneça o fluxo suficiente do gás aos restos desobstruídos da descarga da região da descarga durante o aproximadamente 0.25 milissegundo entre pulsos.
