A method for manufacturing a disk substrate for mass production of a phase
change optical disk, wherein an original disk substrate is having a resist
layer (2) applied on a glass substrate (1), composed of the steps of
forming a depression (pit "p1" and groove "g1") having a first and a
second depth by cutting laser to be exposed on the surface of the resist
layer (2), etching the depression having the first depth and the second
depth from the surface of the resist layer (2) of the disk substrate in
atmosphere mixed with Argon and Oxygen in ratio of 10 to 90% under gas
pressure of 0.1 to 1.5 Pa, wherein the first and the second depth of the
depression (pit "p1" and groove "g1") become predetermined value
respectively, and ashing the resist layer (2) from the glass substrate
(1).
Un metodo per la produzione del substrato del disc per fabbricazione in serie di un disc ottico del cambiamento di fase, in cui un substrato originale del disc sta avendo uno strato di resistenza (2) applicato su un substrato di vetro (1), ha composto di punti di formare una depressione (pozzo "p1" e scanalatura "g1") che ha una prima e seconda profondità tagliando il laser da esporre sulla superficie dello strato di resistenza (2), incidente la depressione all'acquaforte che ha la prima profondità e la seconda profondità dalla superficie dello strato di resistenza (2) del substrato del disc in atmosfera mescolato con argon ed ossigeno in un rapporto di 10 - 90% sotto pressione del gas di il PA 0.1 - 1.5, in cui la prima e seconda profondità della depressione (pozzo "p1" e scanalatura "g1") diventa ha predeterminato il valore rispettivamente ed incenerendo lo strato di resistenza (2) dal substrato di vetro (1).
