Valve control system for atomic layer deposition chamber

   
   

A valve control system for a semiconductor processing chamber includes a system control computer and a plurality of electrically controlled valves associated with the processing chamber. The system further includes a programmable logic controller in communication with the system control computer and operatively coupled to the electrically controlled valves. The refresh time for control of the valves may be less than 10 milliseconds. Consequently, valve control operations do not significantly extend the period of time required for highly repetitive cycling in atomic layer deposition processes. A hardware interlock may be implemented through the output power supply of the programmable logic controller.

Een systeem van de klepcontrole voor een kamer van de halfgeleiderverwerking omvat een computer van de systeemcontrole en een meerderheid van elektrisch gecontroleerde kleppen verbonden aan de verwerkingskamer. Het systeem omvat verder een programmeerbaar logicacontrolemechanisme in communicatie met de computer van de systeemcontrole en doeltreffend gekoppeld aan de elektrisch gecontroleerde kleppen. Verfris tijd want de controle van de kleppen kan zijn minder dan 10 milliseconden. Derhalve breiden de verrichtingen van de klepcontrole niet beduidend de tijdspanne uit die voor hoogst het herhaalde cirkelen in de atoomprocessen van het laagdeposito wordt vereist. Een hardwarekoppeling kan door het verschaffen van de outputmacht van het programmeerbare logicacontrolemechanisme worden uitgevoerd.

 
Web www.patentalert.com

< Method and apparatus for monitoring a material processing system

< Multiplexor having a reference voltage on unselected lines

> Semiconductor device having multilayer interconnection structure and manufacturing method thereof

> Memory device and fabrication method thereof

~ 00112