The present invention generally provides an electro-chemical deposition
system that is designed with a flexible architecture that is expandable
to accommodate future designs rules and gap fill requirements and
provides satisfactory throughput to meet the demands of other processing
systems. The electro-chemical deposition system generally comprises a
mainframe having a mainframe wafer transfer robot, a loading station
disposed in connection with the mainframe, a rapid thermal anneal chamber
disposed adjacent the loading station, one or more processing cells
disposed in connection with the mainframe, and an electrolyte supply
fluidly connected to the one or more electrical processing cells. One
aspect of the invention provides a post electrochemical deposition
treatment, such as a rapid thermal anneal treatment, for enhancing
deposition results. Preferably, the electro-chemical deposition system
includes a system controller adapted to control the electro-chemical
deposition process and the components of the electro-chemical deposition
system, including the rapid thermal anneal chamber disposed adjacent the
loading station.
La presente invenzione fornisce generalmente un sistema elettrochimico di deposito che è progettato con un'architettura flessibile che è espansibile accomodare le regole di disegni ed i requisiti futuri del materiale di riempimento di spacco e fornisce il rendimento soddisfacente per rispondere alle esigenze di altri sistemi di elaborazione. Il sistema elettrochimico di deposito contiene generalmente un elaboratore centrale che ha un robot di trasferimento della cialda dell'elaboratore centrale, una stazione di caricamento disposta di in relazione all'elaboratore centrale, un thermal veloce tempra adiacente disposto di alloggiamento la stazione di caricamento, una o più cellule d'elaborazione disposte di in relazione all'elaboratore centrale e un rifornimento dell'elettrolito fluidly collegato alle una o più cellule d'elaborazione elettriche. Una funzione dell'invenzione fornisce un trattamento elettrochimico di deposito dell'alberino, quale un thermal veloce tempra il trattamento, per l'aumento dei risultati di deposito. Preferibilmente, il sistema elettrochimico di deposito include un regolatore del sistema adattato per controllare il processo elettrochimico di deposito ed i componenti del sistema elettrochimico di deposito, compreso il thermal veloce temprano adiacente disposto di alloggiamento la stazione di caricamento.
