Exposure apparatus and device manufacturing method

   
   

An exposure apparatus or a device manufacturing method, wherein a focus measuring device measures a best focus position upon projecting and exposing, through a projection optical system, a pattern of an original plate onto a substrate placed on a movable stage, by obtaining predetermined estimating information indicative of a blur degree of an image being observed, when observing a reference mark on the movable stage or the surface of the substrate by the focus measuring device, while changing a relative position between the movable stage and the projection optical system toward an optical axis direction of the projection optical system. This exposure apparatus or device manufacturing method controls whether or not the best focus position is measured, based on (i) an elapsed time after a last projection and exposure or (ii) the estimating information obtained at a predetermined time by the focus measuring device and estimating information obtained at the time of measuring the best focus position at the preceding time.

Μια συσκευή έκθεσης ή μια μέθοδος κατασκευής συσκευών, όπου μια μετρώντας συσκευή εστίασης μετρά μια καλύτερη θέση εστίασης επάνω στην προβολή και την έκθεση, μέσω ενός οπτικού συστήματος προβολής, ενός σχεδίου ενός αρχικού πιάτου επάνω σε ένα υπόστρωμα που τοποθετείται σε ένα κινητό στάδιο, με τη λήψη των προκαθορισμένων πληροφοριών υπολογισμού ενδεικτικών ενός βαθμού θαμπάδων του παρατήρησης της εικόνας, κατά τον παρατήρηση ενός σημαδιού αναφοράς στο κινητό στάδιο ή της επιφάνειας του υποστρώματος από τη μετρώντας συσκευή εστίασης, μεταβαλλόμενης μια σχετική θέση μεταξύ του κινητού σταδίου και του οπτικού συστήματος προβολής προς μια οπτική κατεύθυνση άξονα του οπτικού συστήματος προβολής. Αυτοί οι έλεγχοι συσκευών έκθεσης ή μεθόδου κατασκευής συσκευών εάν η καλύτερη θέση εστίασης μετριέται ή όχι, βασισμένος (ι) σε μια παρερχόμενη περίοδο μετά από μια τελευταίες προβολή και μια έκθεση ή (II) τις πληροφορίες υπολογισμού που λαμβάνονται σε έναν προκαθορισμένο χρόνο από τη μετρώντας συσκευή εστίασης και υπολογισμός των πληροφοριών που λαμβάνονται κατά την διάρκεια της μέτρησης της καλύτερης θέσης εστίασης στον προηγούμενο χρόνο.

 
Web www.patentalert.com

< Updating data objects for dynamic application caching

< Virtual copy method for data spanning storage boundaries

> Method and apparatus for calibrating a multi-level current mode driver

> Aligning method, aligner, and device manufacturing method

~ 00107