The present invention generally provides an apparatus and a method for
inspecting a substrate in a processing system. More specifically, optical
signal routing methods and apparatus provide multiple inspection
collection points on a semiconductor processing system. In one aspect, an
optical inspection system comprises a light source and an optical
receiving device, such as a CCD camera, to illuminate and inspect a
substrate for various optical signatures. A plurality of optical
inspection systems are connected to a signal switching device, such as a
multiplexer, which operates to route a particular signal to a detector.
La actual invención proporciona generalmente un aparato y un método para examinar un substrato en un sistema de proceso. Más específicamente, los métodos de encaminamiento de la señal óptica y los aparatos proporcionan puntos múltiples de la colección de la inspección en un sistema de proceso del semiconductor. En un aspecto, un sistema óptico de la inspección abarca una fuente de luz y un dispositivo de recepción óptico, tal como una cámara fotográfica del CCD, para iluminar y para examinar un substrato para saber si hay varias firmas ópticas. Una pluralidad de sistemas ópticos de la inspección está conectada con un dispositivo de la conmutación de la señal, tal como un multiplexor, que funciona para encaminar una señal particular a un detector.
