The present invention provides a modular high repetition rate ultraviolet
gas discharge laser light source for a production line machine. The system
includes an enclosed and purged beam path with optical components
adjustable from outside of the enclosure without the need to open it.
Targets and beam directors are included within the beam path enclosure and
are used to judge the quality of alignment. These target and beam
directors are located on a moveable mount which is insertable in the beam
path for alignment and are removed out of the beam path for normal
operation. The positions of the targets and beam directors are controlled
from outside the beam path enclosure. In preferred embodiments, the
production line machine is a lithography machine and two separate
discharge chambers are provided, one of which is a part of a master
oscillator producing a very narrow band seed beam which is amplified in
the second discharge chamber. This MOPA system is capable of output pulse
energies approximately double the comparable single chamber laser system
with greatly improved beam quality. A pulse stretcher more than doubles
the output pulse length resulting in a reduction in pulse power (mJ/ns) as
compared to prior art laser systems. In a preferred embodiment the beam
directors clients laser beam being aligned to a monitor outside the beam
path enclosure to permit the normal to image a cross-section of the beam
and the target.
La actual invención proporciona una fuente de luz laser ultravioleta de la descarga del gas de la alta tarifa modular de la repetición para una cadena de producción máquina. El sistema incluye una trayectoria de viga incluida y purgada con los componentes ópticos ajustables fuera del recinto sin la necesidad de abrirla. Las blancos y los directores de la viga son incluidos dentro del recinto de la trayectoria de viga y se utilizan juzgar la calidad de la alineación. Éstos apuntan y los directores de la viga están situados en un montaje movible que sea insertable en la trayectoria de viga para la alineación y se quite de la trayectoria de viga para la operación normal. Las posiciones de las blancos y de los directores de la viga son controladas fuera del recinto de la trayectoria de viga. En encarnaciones preferidas, la cadena de producción máquina es una máquina de la litografía y se proporcionan dos compartimientos separados de la descarga, uno de los cuales es una pieza de un oscilador principal produciendo una viga muy de banda estrecha de la semilla que se amplifique en el segundo compartimiento de la descarga. Este sistema de MOPA es capaz de energías del pulso de la salida el solo sistema comparable aproximadamente doble del laser del compartimiento con calidad grandemente mejorada de la viga. Un ensanchador del pulso más que la longitud del pulso de la salida dando por resultado una reducción en la energía del pulso (mJ/ns) con respecto a sistemas del laser del arte anterior. En una encarnación preferida el rayo laser de los clientes de los directores de la viga que es alineado con un monitor fuera del recinto de la trayectoria de viga para permitir el normal a la imagen una sección representativa de la viga y de la blanco.
