Multiple wavelength photolithography for preparing multilayer microstructures

   
   

The invention relates to a multilayer microstructure and a method for preparing thereof. The method involves first applying a first photodefinable composition having a first exposure wavelength on a substrate to form a first polymeric layer. A portion of the first photodefinable composition is then exposed to electromagnetic radiation of the first exposure wavelength to form a first pattern in the first polymeric layer. After exposing the first polymeric layer, a second photodefinable composition having a second exposure wavelength is applied on the first polymeric layer to form a second polymeric layer. A portion of the second photodefinable composition is then exposed to electromagnetic radiation of the second exposure wavelength to form a second pattern in the second polymeric layer. In addition, a portion of each layer is removed according to the patterns to form a multilayer microstructure having a cavity having a shape that corresponds to the portions removed.

De uitvinding heeft op een multilayer microstructuur en een methode om daarvan voorbereidingen te treffen betrekking. De methode houdt eerst het aanbrengen van een eerste photodefinable samenstelling in die een eerste blootstellingsgolflengte op een substraat heeft om een eerste polymere laag te vormen. Een gedeelte van de eerste photodefinable samenstelling wordt dan blootgesteld aan elektromagnetische straling van de eerste blootstellingsgolflengte om een eerste patroon in de eerste polymere laag te vormen. Na het blootstellen van de eerste polymere laag, wordt een tweede photodefinable samenstelling die een tweede blootstellingsgolflengte heeft aangebracht op de eerste polymere laag om een tweede polymere laag te vormen. Een gedeelte van de tweede photodefinable samenstelling wordt dan blootgesteld aan elektromagnetische straling van de tweede blootstellingsgolflengte om een tweede patroon in de tweede polymere laag te vormen. Bovendien wordt een gedeelte van elke laag verwijderd volgens de patronen om een multilayer microstructuur te vormen die een holte heeft die een vorm heeft die aan de verwijderde gedeelten beantwoordt.

 
Web www.patentalert.com

< Stochastic assembly of sublithographic nanoscale interfaces

< Nanostructured ceramic platform for micromachined devices and device arrays

> Nano-battery systems

> Compositions produced by solvent exchange methods and uses thereof

~ 00101