A method and system embodying the present invention for predicting
systematic overlay affects in semiconductor lithography. This method is a
feed-forward method, based on correlation of current and prior aligned
levels, to predict optimum overlay offsets for a given lot. Instead of
using population averaging, which ignores process variability, it
acknowledges the variability and uses prior measurements to advantage. The
principle, backed by production data, is that "systematic" overlay errors
are just that: Image placement errors which persist through processing and
will be predictable through time and processing.
Μια μέθοδος και ένα σύστημα που ενσωματώνουν την παρούσα εφεύρεση για την πρόβλεψη της συστηματικής επικάλυψης έχουν επιπτώσεις στη λιθογραφία ημιαγωγών. Αυτή η μέθοδος είναι μια feed-forward μέθοδος, βασισμένη στο συσχετισμό του τρέχοντος και προγενέστερου ευθυγραμμισμένου επιπέδου, για να προβλέψει τα βέλτιστα όφσετ επικαλύψεων για ένα δεδομένο μέρος. Αντί της χρησιμοποίησης του πληθυσμού που υπολογίζει κατά μέσο όρο, που αγνοεί τη μεταβλητότητα διαδικασίας, αναγνωρίζει τη μεταβλητότητα και χρησιμοποιεί τις προγενέστερες μετρήσεις στο πλεονέκτημα. Η αρχή, που υποστηρίζεται από τα στοιχεία παραγωγής, είναι ότι τα "συστηματικά" λάθη επικαλύψεων είναι ακριβώς ότι: Λάθη τοποθέτησης εικόνας που εμμένουν μέσω της επεξεργασίας και θα είναι προβλέψιμα μέσω του χρόνου και της επεξεργασίας.
