A radiation-sensitive resin composition including (A) a resin containing an
alicyclic skeleton in its backbone, and (B) a radiation-sensitive
acid-generating agent, is provided. This composition is excellent in
transparency with respect to radiation and dry etching resistance, and can
give a photoresist pattern excellent in adhesion to substrates,
sensitivity, resolution, and developability.
Μια radiation-sensitive σύνθεση ρητίνης συμπεριλαμβανομένης (A) μιας ρητίνης που περιέχουν έναν αλεικυκλικό σκελετό στη σπονδυλική στήλη της, και (B) ενός radiation-sensitive όξινος-παράγοντας πράκτορα, παρέχεται. Αυτή η σύνθεση είναι άριστη στη διαφάνεια όσον αφορά την ακτινοβολία και την ξηρά αντίσταση χαρακτικής, και μπορεί να δώσει ένα photoresist σχέδιο άριστο στην προσκόλληση στα υποστρώματα, την ευαισθησία, την ανάλυση, και το developability.
