Method and apparatus for ellipsometric metrology for a sample contained in a chamber or the like

   
   

An ellipsometric metrology apparatus for a sample contained in a chamber. A light source outside the chamber produces the illuminating beam. A polarizing device outside the chamber polarizes the illuminating beam. A window of selected dimensions and features is disposed in a plane substantially parallel to the sample surface and at least partly closes the chamber. A first directing device directs the polarized illuminating beam on to an area of the sample along a first optical path extending from the polarizing device to the area of the sample through the window. The first optical path forms a predetermined oblique angle of incidence relative to the sample surface. A polarization analyzing device is outside the chamber, a second directing device directs the reflected beam resulting from the illumination of the sample by the illuminating beam on to the analyzing device along a second optical path extending from the sample towards the analyzing device through the window. The reflected beam is symmetrical to the illuminating beam relative to a normal to the sample surface. A detecting device detects the output beam transmitted by the analyzing device in order to supply an output signal processing means processes the output signal in order to determine the changes in stage of polarization in phase and in amplitude caused by the reflection on the area of the sample.

Un aparato ellipsometric de la metrología para una muestra contenida en un compartimiento. Una fuente de luz fuera del compartimiento produce la viga que ilumina. Un dispositivo polarizante fuera del compartimiento polariza la viga que ilumina. Una ventana de dimensiones y de características seleccionadas se dispone en un plano substancialmente paralelo a la superficie de la muestra y cierra por lo menos en parte el compartimiento. Un primer dispositivo que dirige dirige la viga que ilumina polarizada encendido a un área de la muestra a lo largo de una primera trayectoria óptica que extiende del dispositivo polarizante al área de la muestra a través de la ventana. La primera trayectoria óptica forma un ángulo de la incidencia oblicuo predeterminado concerniente a la superficie de la muestra. Una polarización que analiza el dispositivo está fuera del compartimiento, un segundo dispositivo que dirige dirige la viga reflejada resultando de la iluminación de la muestra por la viga que ilumina encendido al dispositivo que analiza a lo largo de una segunda trayectoria óptica que extiende de la muestra hacia el dispositivo que analiza a través de la ventana. La viga reflejada es simétrica a la viga que ilumina concerniente a un normal a la superficie de la muestra. Un dispositivo de detección detecta la viga de la salida transmitida por el dispositivo que analiza para proveer procesos de los medios de salida de un proceso de señal la señal de salida para determinar los cambios en la etapa de la polarización en fase y en amplitud la causó por la reflexión en el área de la muestra.

 
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