A process for producing an article with a microstructure includes the steps of forming a primary relief structure on a surface of a substrate, applying a photo resist on the substrate, exposing part of the photo resist using a photo mask so as to form a microstructure pattern, developing the microstructure pattern in the exposed photo resist, thereby allowing access to a part of the primary relief structure from the photo resist, and thereby forming a patterned surface with a microstructure relief that is bounded by the exposed part of the primary relief structure and by remainder of the photo resist on the substrate, and forming a metal layer on the patterned surface to form the article having the microstructure with a profile corresponding to the microstructure relief on the patterned surface.

Un proceso para producir un artículo con una microestructura incluye los pasos de formar una estructura primaria de la relevación en una superficie de un substrato, aplicando una foto resista en el substrato, exponiendo la parte de la foto resista el usar de una máscara de la foto para formar un patrón de la microestructura, desarrollando el patrón de la microestructura en la foto expuesta resista, de tal modo permitiendo el acceso a una parte de la estructura primaria de la relevación de la foto resista, y de tal modo formando una superficie modelada con una relevación de la microestructura que es limitada por la parte expuesta de la estructura primaria de la relevación y por el resto de la foto resista en el substrato, y formando una capa del metal en la superficie modelada a forme el artículo que tiene la microestructura con un perfil que corresponde a la relevación de la microestructura en la superficie modelada.