In editing of a job parameter in a semiconductor exposure apparatus controlled by the job parameter, which is a collection of parameters, a first parameter set independent of the model of the semiconductor exposure apparatus and a second parameter set dependent upon the model are edited and saved independently. This makes it possible to improve operability of parameter editing and management in the semiconductor exposure apparatus, ease of maintenance thereof and the ability to use job parameters among various models of apparatus.

Beim Redigieren eines Jobparameters in einem Halbleiterbelichtung Apparat, der durch den Jobparameter, der eine Ansammlung Parameter gesteuert wird ist, werden ein erstes Parametergruppe Unabhängiges des Modells des Halbleiterbelichtung Apparates und ein zweiter Parametergruppe Abhängiger nach dem Modell unabhängig redigiert und gespeichert. Dieses macht es möglich, Funktionsfähigkeit des Parameterredigierens und Management im Halbleiterbelichtung Apparat, Mühelosigkeit der Wartung davon und die Fähigkeit zu verbessern, Jobparameter unter verschiedenen Modellen der Apparate zu verwenden.