An electron gun assembly has at least one additional electrode located along the equipotential plane of a potential distribution formed between a focusing electrode and anode electrode forming a main lens. In a no-deflection state, the additional electrode receives a voltage of a predetermined level corresponding to the potential of the equipotential plane on which the additional electrode is located. In a deflection state, letting Vf be the application voltage of the focusing electrode, Eb be the application voltage of the anode electrode, and Vs be the application voltage of the addition electrode, a value (Vs-Vf)/(Eb-Vf) changes with an increase in electron beam deflection amount, while the additional electrode forms an electron lens having different focusing powers in the horizontal direction and vertical direction.

Un montaje del arma de electrón tiene por lo menos un electrodo adicional situado a lo largo del plano equipotential de una distribución potencial formada entre un electrodo que se enfoca y el electrodo del ánodo que forman una lente principal. En un estado de la ninguno-desviacio'n, el electrodo adicional recibe un voltaje de un nivel predeterminado que corresponde al potencial del plano equipotential en el cual el electrodo adicional está situado. En un estado de la desviación, dejando Vf sea el voltaje del uso del electrodo que se enfoca, el Eb sea el voltaje del uso del electrodo del ánodo, y contra sea el voltaje del uso del electrodo de la adición, un valor (Vs-Vf)/(Eb-Vf) cambia con un aumento en cantidad de la desviación del haz electrónico, mientras que el electrodo adicional forma una lente del electrón que tiene diversas energías que se enfocan en la dirección horizontal y la dirección de la vertical.