The present invention provides an excimer laser capable of producing a high
quality pulsed laser beam at pulse rates of about 4,000 Hz at pulse
energies of about 5 mJ or greater. A preferred embodiment is an ArF
excimer laser specifically designed as a light source for integrated
circuit lithography. An improved wavemeter with special software monitors
output beam parameters and controls a very fast PZT driven tuning mirror
and the pulse power charging voltage to maintain wavelength and pulse
energy within desired limits. In a preferred embodiment two fan motors
drive a single tangential fan which provides sufficient gas flow to clear
discharge debris from the discharge region during the approximately 0.25
milliseconds between pulses.
Η παρούσα εφεύρεση παρέχει ένα excimer λέιζερ ικανό μια υψηλής ποιότητας παλόμενη ακτίνα λέιζερ στα ποσοστά σφυγμού περίπου 4.000 Hz στις ενέργειες σφυγμού περίπου 5 mJ ή μεγαλύτερος. Μια προτιμημένη ενσωμάτωση είναι ένα excimer ArF λέιζερ που σχεδιάζεται συγκεκριμένα ως πηγή φωτός για τη λιθογραφία ολοκληρωμένων κυκλωμάτων. Βελτιωμένο wavemeter με τις ειδικές παραμέτρους ακτίνων παραγωγής οργάνων ελέγχου λογισμικού και οι έλεγχοι ένας πολύ γρήγορος προσανατολισμένος προς το PZT συντονισμός αντανακλούν και η τάση χρέωσης ισχύος σφυγμού για να διατηρήσουν την ενέργεια μήκους κύματος και σφυγμού μέσα στα επιθυμητά όρια. Σε μια προτιμημένη ενσωμάτωση δύο μηχανές ανεμιστήρων οδηγούν έναν ενιαίο εφαπτόμενο ανεμιστήρα που παρέχει ότι ικανοποιητικός αέριο ρεύστε στα σαφή συντρίμμια απαλλαγής από την περιοχή απαλλαγής κατά τη διάρκεια των περίπου 0,25 χιλιοστών του δευτερολέπτου μεταξύ των σφυγμών.
