Method for focus detection for optically detecting deviation of the image plane of a projection lens from the upper surface of a substrate, and an imaging system with a focus-detection system

   
   

A microlithographic projection illumination system has a focus-detection system for optically detecting deviations of the image plane of a projection lens from the upper surface of a substrate arranged in the vicinity of its image plane. The focus-detection system has a system for coupling in at least one measuring beam that is obliquely incident on, and to be reflected at, the substrate surface into an intermediate zone between the final optical surface of the imaging system and the substrate surface and a system for coupling out the measuring beam and detecting it following its reflection at the substrate surface. The system for coupling the measuring beam in and the system for coupling it out are configured such that the measuring beam is reflected at least once at the substrate surface and at least once at a reflecting surface of the imaging system that reflects the light employed for measurement purposes before the measuring beam enters the system for coupling it out, which allows employing the image side of the imaging system as part of the focus-detection system. The focus-detection system also operates reliably when used on ultrahigh-aperture lenses that have correspondingly short working distances.

Een microlithographic systeem van de projectieverlichting heeft een nadruk-opsporing systeem om afwijkingen van het beeldvliegtuig van een projectielens van de hogere oppervlakte van een substraat optisch te ontdekken dat in de buurt van zijn beeldvliegtuig wordt geschikt. Heeft het nadruk-opsporing systeem een systeem om in minstens één metend straal die schuin inherent is, en om bij, de substraatoppervlakte te koppelen in een middenstreek tussen de definitieve optische oppervlakte van het weergavesysteem en de substraatoppervlakte en een systeem worden nagedacht om de metende straal uit te koppelen en het te ontdekken na zijn gedachtengang aan de substraatoppervlakte. Het systeem om de metende straal te koppelen binnen en het systeem om te koppelen worden het uit gevormd dusdanig dat de metende straal minstens eens aan de substraatoppervlakte en minstens eens aan een nadenkende oppervlakte van het weergavesysteem wordt weerspiegeld dat op het licht wijst dat voor metingsdoeleinden wordt aangewend alvorens de metende straal het systeem ingaat om het te koppelen uit, die toestaat aanwendend de beeldkant van het weergavesysteem als deel van het nadruk-opsporing systeem. Werkt het nadruk-opsporing systeem ook wanneer betrouwbaar gebruikt op ultrahoog-openingslenzen die navenant korte het werk afstanden hebben.

 
Web www.patentalert.com

< Composition for treating or preventing glomerulopathy

< Catalyst for asymmetric epoxidation of enones and process for producing optically active epoxide employing it

> Low profile optical imaging system having a wide field of regard

> Particle detection method and apparatus

~ 00174