Compositions and methods for the removal of patterned photodefinable
materials, such as photoresists and/or photoimageable dielectric
materials, from substrates are provided. Such compositions and methods are
useful in the manufacture of electronic devices. Methods of reworking
electronic device substrates by removing patterned photodefinable material
from an underlying organic film are also provided.
Οι συνθέσεις και οι μέθοδοι για την αφαίρεση των διαμορφωμένων photodefinable υλικών, όπως photoresists ή/και τα photoimageable διηλεκτρικά υλικά, από τα υποστρώματα παρέχονται. Τέτοιες συνθέσεις και μέθοδοι είναι χρήσιμες στην κατασκευή των ηλεκτρονικών συσκευών. Οι μέθοδοι τα ηλεκτρονικά υποστρώματα συσκευών με την αφαίρεση του διαμορφωμένου photodefinable υλικού από μια ελλοχεύουσα οργανική ταινία παρέχονται επίσης.
