A silica-based coating film having a low dielectric constant not exceeding
2.5 can be formed on the surface of a substrate to serve as a planarizing
layer or an interlayer insulating layer by coating the surface with a
unique coating solution containing a hydrolysis-condensation product of a
polyalkoxy silane compound such as tetraethoxy silane and monomethyl
trimethoxy silane, which is formed by the hydrolysis of a polyalkoxy
silane in the presence of a basic catalyst such as ammonia in an alcohol
solvent in a relatively low concentration followed by replacement of the
alcohol solvent with an aprotic polar solvent such as N-methyl
pyrrolidone, followed by drying and baking at 350 to 800.degree. C.
Uma película revestindo silicone-baseada que tem uma constante dieléctrica baixa não exceder 2.5 pode ser dada forma na superfície de uma carcaça para servir como uma camada planarizing ou uma camada isolando do interlayer revestindo a superfície com uma solução revestindo original que contem um produto da hydrolysis-condensação de um composto do silane do polyalkoxy tal como o silane do tetraethoxy e o silane monomethyl do trimethoxy, que é dado forma pelo hydrolysis de um silane do polyalkoxy na presença de um catalizador básico tal como a amônia em um solvente do álcool em uma concentração relativamente baixa seguida pela recolocação do solvente do álcool com um solvente polar aprotic tal como o pyrrolidone n-methyl, seguida secando e cozendo em 350 a 800.degree. C.
