A method for producing a quantum dot silicate thin film for light emitting
devices. The quantum dot silicate thin film is produced by introducing a
silane compound having a functional group capable of interacting with a
quantum dot and at least one reactive group for a sol-gel process into the
surface of the quantum dot or a matrix material for dispersing the quantum
dot, thereby exhibiting excellent mechanical and thermal stability.
Eine Methode für das Produzieren eines Dünnfilms der Quantenpunktkieselsäureverbindung für das Licht, das Vorrichtungen ausstrahlt. Der Dünnfilm der Quantenpunktkieselsäureverbindung wird produziert, indem man ein Siliziumwasserstoffmittel einführt, das eine Funktionsgruppe hat, die zum Einwirken auf einen Quantenpunkt fähig sind und mindestens eine reagierende Gruppe für einen Solenoid-Gel Prozeß in die Oberfläche des Quantenpunktes oder in ein Matrixmaterial für das Zerstreuen des Quantenpunktes, dadurch esausstellt esausstellt ausgezeichnete mechanische und Wärmebeständigkeit.
