Methods and apparatus for processing the surface of a microelectronic workpiece

   
   

A reactor for plating a metal onto a surface of a workpiece is set forth. The reactor comprises a reactor bowl including an electroplating solution disposed therein and an anode disposed in the reactor bowl in contact with the electroplating solution. A contact assembly is spaced from the anode within the reactor bowl. The contact assembly includes a plurality of contacts disposed to contact a peripheral edge of the surface of the workpiece to provide electroplating power to the surface of the workpiece. The contacts execute a wiping action against the surface of the workpiece as the workpiece is brought into engagement therewith The contact assembly also including a barrier disposed interior of the plurality of contacts. The barrier includes a member disposed to engage the surface of the workpiece to assist in isolating the plurality of contacts from the electroplating solution.

Un reattore per il placcaggio del metallo su una superficie di un pezzo in lavorazione è disposto. Il reattore contiene una ciotola del reattore compreso una soluzione placcante si è disposto di in ciò e un anodo disposto di nella ciotola del reattore in contatto con la soluzione placcante. Un complessivo del contatto è distanziato dall'anodo all'interno della ciotola del reattore. Il complessivo del contatto include una pluralità di contatti disposti di per mettersi in contatto con un bordo periferico della superficie del pezzo in lavorazione per fornire l'alimentazione placcante alla superficie del pezzo in lavorazione. I contatti eseguono un'azione pulente contro la superficie del pezzo in lavorazione mentre il pezzo in lavorazione è introdotto nell'aggancio di conseguenza il complessivo del contatto anche compreso un interiore disposto di barriera della pluralità di contatti. La barriera include un membro disposto di agganciare la superficie del pezzo in lavorazione per aiutare nell'isolamento della pluralità di contatti dalla soluzione placcante.

 
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< Methods for removing metallic contamination from wafer containers

< Process and apparatus for treating a workpiece such as a semiconductor wafer

> Apparatus for treating a workpiece with steam and ozone

> Process and manufacturing tool architecture for use in the manufacture of one or more protected metallization structures on a workpiece

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