Position detection apparatus, alignment apparatus and methods therefor, and exposure apparatus and device manufacturing method

   
   

A position detection apparatus for detecting a position of a pattern includes a first sensing system which senses a first image of the pattern at a first magnification, a second sensing system which senses a second image of the pattern at a second magnification higher than the first magnification, and a determination system which determines whether a relative position between the second sensing system and the pattern is valid for detecting a position of the pattern based on the first image sensed by the first sensing system.

Een apparaat van de positieopsporing om een positie van een patroon te ontdekken omvat een eerste ontdekkend systeem dat de betekenissen een eerste beeld van het patroon bij een eerste vergroting, een tweede ontdekkend systeem die betekenissen een tweede beeld van het patroon bij een tweede vergroting hoger dan de eerste vergroting, en een bepalingssysteem dat bepaalt of een relatieve positie tussen het tweede ontdekkende systeem en het patroon voor het ontdekken van een positie van het patroon geldig is op het eerste beeld dat door het eerste ontdekkende systeem wordt ontdekt baseerden.

 
Web www.patentalert.com

< Apparatus, method and memory medium for processing a radiation image

< Exposure method and apparatus, and device manufacturing method

> Automatically uploading and organizing documents in a document server

> Organic luminescence device

~ 00169