Physical vapor deposition apparatus and process

   
   

A PVD process and apparatus (120) for depositing a coating (132) from multiple sources (110, 111) of different materials. The process and apparatus (120) are particulaity intended to deposit a beta-nickel aluminide coating (132) containing one or more elements whose vapor pressures are lower than NiAl. The PVD process and apparatus (120) entail feeding at least two materials (110, 111) into a coating chamber (122) and evaporating the materials (110, 111) at different rates from separate molten pools (114, 115) thereof. Articles (130) to be coated are suspended within the coating chamber (122), and transported with a support apparatus (118) relative to the two molten pools (114, 115) so as to deposit a coating (132) with a controlled composition that is a mixture of the first and second materials (110, 111).

Um processo de PVD e um instrumento (120) para depositar um revestimento (132) das fontes múltiplas (110, 111) de materiais diferentes. O processo e os instrumentos (120) são particulaity pretendido depositar um revestimento do aluminide beta-niquelar (132) que contem um ou mais elemento cujas as pressões do vapor são mais baixas do que NiAl. O processo de PVD e os instrumentos (120) envolvem alimentar ao menos dois materiais (110, 111) em uma câmara revestindo (122) e evaporar os materiais (110, 111) em taxas diferentes dos pools derretidos separados (114, 115) disso. Os artigos (130) a ser revestidos são suspendidos dentro da câmara revestindo (122), e transportados com um instrumento da sustentação (118) relativo aos dois pools derretidos (114, 115) para depositar um revestimento (132) com uma composição controlada que seja uma mistura dos primeiros e segundos materiais (110, 111).

 
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