A lithography device including a soft X-ray source 1 transforming to a
quasi-parallel radiation apparatus for placing a mask 3 and a
plate-substrate 4 coated with a resist 5, and an absorbing filter 6 for
smoothing of intensity decreasing as from the center to the periphery of a
beam. The filter 6 is placed between the source 1 and the input face of
the half-lens 2. The half-lens has an enlarged capture angle. This angle
is chosen depending on radiation energy (0.6-6 keV) of the source 1. As a
result, there is an opportunity to increase the size of the
plate-substrate.
Un dispositif de lithographie comprenant une source douce 1 de rayon X transformant à un appareillage quasi-parallèle de rayonnement pour placer un masque 3 et un plat-substrat 4 a enduit d'une résistance 5, et d'un filtre absorbant 6 pour lisser de l'intensité diminuant comme du centre à la périphérie d'un faisceau. Le filtre 6 est placé entre la source 1 et le visage d'entrée de l'moitié-objectif 2. L'moitié-objectif a un angle agrandi de capture. Cet angle est choisi selon l'énergie de rayonnement (0.6-6 kev) de la source 1. En conséquence, il y a une occasion d'augmenter la taille du plat-substrat.
