Optical system with isolated measuring structure

   
   

An optical system, in particular an exposure lens for semiconductor lithography, with a plurality of optical elements has at least one load-dissipating structure. The load-dissipating structure diverts the forces originating from the optical elements. The optical system also has a measuring structure constructed independently of the at least one load-dissipating structure.

Um sistema ótico, no detalhe uma lente da exposição para o lithography do semicondutor, com um plurality de elementos óticos tem ao menos uma estrutura carga-dissipando-se. A estrutura carga-dissipando-se desvía as forças que originam dos elementos óticos. O sistema ótico tem também uma estrutura de medição construída independentemente da ao menos uma estrutura carga-dissipando-se.

 
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