EUV, XUV, and X-ray wavelength sources created from laser plasma produced from liquid metal solutions, and nano-size particles in solutions

   
   

Special liquid droplet targets that are irradiated by a high power laser and are plasmarized to form a point source EUV, XUV and x-ray source. Various types of liquid droplet targets include metallic solutions, and nano-sized particles in solutions having a melting temperature lower than the melting temperature of some or all of the constituent metals, used a laser point source target droplets. The solutions have no damaging debris and can produce plasma emissions in the X-rays, XUV, and EUV(extreme ultra violet) spectral ranges of approximately 0.1 nm to approximately 100 nm, approximately 11.7 nm and 13 nm, approximately 0.5 nm to approximately 1.5 nm, and approximately 2.3 nm to approximately 4.5 nm. The second type of target consists of various types of liquids which contain as a miscible fluid various nano-size particles of different types of metals and non-metal materials.

Gli obiettivi liquidi speciali della gocciolina che sono irradiati da un laser di alta alimentazione e sono plasmarized per formare una fonte EUV, XUV e fonte del punto dei raggi X. I vari tipi di obiettivi liquidi della gocciolina includono le soluzioni metalliche e le particelle nano-graduate nelle soluzioni che hanno una temperatura di fusione piĆ¹ basso di la temperatura di fusione di alcuno o tutti i metalli costituenti, ha usato le goccioline del laser del punto dell'obiettivo di fonte. Le soluzioni non hanno residui offensivi e possono produrre le emissioni del plasma nei raggi X, il XUV e le gamme spettrali ultra viola di EUV(extreme) di circa 0.1 nm a circa 100 il nm, circa 11.7 il nm e 13 nm, circa 0.5 nm a circa 1.5 nm e circa 2.3 nm a circa 4.5 nm. Il secondo tipo di obiettivo consiste di vari tipi di liquidi che contengono come particelle fluide miscibili varie di nano-formato dei tipi differenti di metalli e di materiali del metalloide.

 
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