A processing station adaptable to standard cluster tools has a
vertically-translatable pedestal having an upper wafer-support surface
including a heater plate adapted to be plugged into a unique feedthrough
in the pedestal. At a lower position for the pedestal wafers may be
transferred to and from the processing station, and at an upper position
for the pedestal the pedestal forms an annular pumping passage with a
lower circular opening in a processing chamber. A removable, replaceable
ring at the lower opening of the processing chamber allows process pumping
speed to be tailored for different processes by replacing the ring. In
some embodiments the pedestal also has a surrounding shroud defining an
annular pumping passage around the pedestal. A unique two-zone heater
plate is adapted to the top of the pedestal, and connects to a unique
feedthrough allowing heater plates to be quickly and simply replaced. In
some embodiments the top of the processing chamber is removable allowing
users to remove either pedestals or heater assemblies. Or both, through
the open top of a processing station. In preferred embodiments the system
is adapted to atomic layer deposition processing.
Une station de traitement adaptable aux outils standard de faisceau a un piédestal vertical-traduisible avoir un supérieur gaufrette-soutiennent la surface comprenant un plat de réchauffeur adapté pour être branché à un auget unique dans le piédestal. À une position inférieure pour le piédestal les gaufrettes peuvent être transférées à et de la station de traitement, et à une position supérieure pour le piédestal le piédestal forme un passage de pompage annulaire avec une ouverture circulaire inférieure dans une chambre de traitement. Un anneau démontable et remplaçable à l'ouverture inférieure de la chambre de traitement permet à la vitesse de pompage de processus d'être travaillée pour différents processus en remplaçant l'anneau. Dans quelques incorporations le piédestal a également une monture environnante définir un passage de pompage annulaire autour du piédestal. Un plat unique de réchauffeur de deux-zone est adapté au dessus du piédestal, et se relie à un auget unique permettant à des plats de réchauffeur d'être rapidement et a simplement remplacé. Dans quelques incorporations le dessus de la chambre de traitement est démontable permettant à des utilisateurs d'enlever des piédestaux ou des réchauffeurs. Ou tous les deux, par le dessus ouvert d'une station de traitement. Dans des modes de réalisation préférés le système est adapté au procédé atomique de dépôt de couche.
