An apparatus, system, and method for configuring a dual isolation system
lithography tool is described. An isolated base frame is supported by a
non-isolated tool structure. A wafer stage component is supported by the
isolated base frame. The wafer stage component provides a mount for a
semiconductor wafer. A reticle stage component is supported by the
isolated base frame. The reticle stage component provides a mount for a
reticle. An isolated bridge provides a mount for a projection optics. The
isolated bridge is supported by the isolated base frame. Alternatively, an
isolated bridge is supported by a non-isolated base frame. A wafer stage
component is supported by the non-isolated base frame. A reticle stage
component is supported by the non-isolated base frame. An isolated optical
relay is supported by the non-isolated base frame. The isolated optical
relay includes one or more individually servo controlled framing blades.
Описаны прибор, система, и метод для устанавливать двойной инструмент литографированием системы изоляции. Изолированная низкопробная рамка поддержана non-isolated структурой инструмента. Компонент этапа вафли поддержан изолированной низкопробной рамкой. Компонент этапа вафли обеспечивает держатель для вафли полупроводника. Компонент этапа перекрещения поддержан изолированной низкопробной рамкой. Компонент этапа перекрещения обеспечивает держатель для перекрещения. Изолированный мост обеспечивает держатель для оптики проекции. Изолированный мост поддержан изолированной низкопробной рамкой. Друг, изолированный мост поддержан non-isolated низкопробной рамкой. Компонент этапа вафли поддержан non-isolated низкопробной рамкой. Компонент этапа перекрещения поддержан non-isolated низкопробной рамкой. Изолированное оптически релеий поддержано non-isolated низкопробной рамкой. Изолированное оптически релеий вклюает one or more индивидуально servo controlled обрамляя лезвия.
