Disclosed are photoresist compositions suitable for imaging with sub 200 nm
wavelength radiation including as polymerized units one or more monomers
having an electronegative substituent and an ester group containing
certain leaving groups. Also disclosed are methods of providing
photoresist relief images using the photoresist compositions.
Worden gegeben der Photoresistaufbau frei, der für Belichtung mit Unterseeboot 200 nm Wellenlängestrahlung einschließlich als polymerisierte Maßeinheiten eine oder mehr Monomeren verwendbar ist, die einen electronegative Substituenten und eine Estergruppe enthalten bestimmte verlassende Gruppen haben. Auch gegeben Methoden des Zur Verfügung stellens von von Photoresistreliefbildern mit dem Photoresistaufbau frei.
