A composition for film formation capable of forming a coating film
excellent in low dielectric constant characteristics, cracking resistance,
modulus of elasticity, and adhesion to substrates and useful as an
interlayer insulating film material in semiconductor devices, etc. The
composition for film formation contains (A) at least one member selected
from an aromatic polyarylene and an aromatic poly(arylene ether), (B) a
polyvinylsiloxane, and (C) an organic solvent.
Μια σύνθεση για το σχηματισμό ταινιών ικανό μια ταινία επιστρώματος άριστη στα χαμηλά χαρακτηριστικά διηλεκτρικής σταθεράς, την αντίσταση ραγίσματος, το συντελεστή της ελαστικότητας, και την προσκόλληση στα υποστρώματα και χρήσιμος ως μονώνοντας υλικό ταινιών ενδιάμεσων στρωμάτων στις συσκευές ημιαγωγών, κ.λπ.... Η σύνθεση για το σχηματισμό ταινιών περιέχει (A) τουλάχιστον ένα μέλος που επιλέγονται από ένα αρωματικό polyarylene και έναν αρωματικό αιθέρα poly(arylene), (B) ένα polyvinylsiloxane, και (C) έναν οργανικό διαλύτη.
