A process for fabricating an electro-optic device is decribed that
includes: a) providing a substrate comprising at least two polymer
micro-ridges, where each polymer micro-ridge comprises an upper surface
and two walls, and the two walls form an angle with a lower surface; b)
depositing a metal thin film on the upper surface, the two walls, and the
lower surface; c) etching a predetermined amount of the deposited metal
thin film on the lower surface, thereby forming two electrodes separated
by a gap; d) depositing a nonlinear optical polymer in the gap between the
two electrodes; and e) poling the nonlinear optical polymer to induce
electro-optic activity.
Un proceso para fabricar un dispositivo electróptico es decribed que incluya: a) proporcionando un substrato que abarca por lo menos dos micro-cantos del polímero, donde cada micro-canto del polímero abarca una superficie superior y dos paredes, y las dos paredes forman un ángulo con una superficie más baja; b) depositar una película fina del metal en la superficie superior, las dos paredes, y la superficie más baja; c) grabando al agua fuerte una cantidad predeterminada de la película fina depositada del metal en la superficie más baja, de tal modo formando dos electrodos se separó por un boquete; d) depositar un polímero óptico no lineal en el boquete entre los dos electrodos; y e) poling el polímero óptico no lineal para inducir actividad electróptica.
