High modulus crosslinked polyethylene with reduced residual free radical concentration prepared below the melt

   
   

The present invention provides an irradiated crosslinked polyethylene containing reduced free radicals, preferably containing substantially no residual free radical. Disclosed is a process of making irradiated crosslinked polyethylene by irradiating the polyethylene in contact with a sensitizing environment at an elevated temperature that is below the melting point, in order to reduce the concentration of residual free radicals to an undetectable level. A process of making irradiated crosslinked polyethylene composition having reduced free radical content, preferably containing substantially no residual free radicals, by mechanically deforming the polyethylene at a temperature that is below the melting point of the polyethylene, optionally in a sensitizing environment, is also disclosed herein.

La présente invention fournit un polyéthylène réticulé irradié contenant les radicaux libres réduits, contenant de préférence pratiquement pas de radical libre résiduel. Révélé est un processus de préparer le polyéthylène réticulé irradié en irradiant le polyéthylène en contact avec un environnement de sensibilisation à une température élevée qui est au-dessous du point de fusion, afin de ramener la concentration des radicaux libres résiduels à un niveau indétectable. Un processus de faire la composition réticulée irradiée en polyéthylène ayant réduit la teneur en radicaux libre, contenant de préférence pratiquement pas de radicaux libres résiduels, en déformant mécaniquement le polyéthylène à une température qui est au-dessous du point de fusion du polyéthylène, sur option dans un environnement de sensibilisation, est également révélé ci-dessus.

 
Web www.patentalert.com

< Material suitable for an individual's tissue reconstruction

< Amorphous polymeric polyaxial initiators and compliant crystalline copolymers therefrom

> Combination of antimicrobial agents and bacterial interference to coat medical devices

> Spinal implant surface configuration

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