A method for characterizing the performance of an electrostatic chuck prior
to installing the chuck in the vacuum chamber of a semiconductor
processing system in a production line. One or more characteristics of the
electrostatic chuck are measured and compared with the known
characteristics of a reference chuck. The comparison indicates the
performance of the chuck and projects the performance of the chuck in an
actual operating environment. The characteristics that are measured
include the chuck impedance, the current-voltage characteristic of the
chuck, the local plasma density proximate the support surface of the
chuck, and the cooling or heating rate of the chuck.
Een methode om de prestaties van een elektrostatische klem te kenmerken voorafgaand aan het installeren van de klem in de vacuümkamer van een systeem van de halfgeleiderverwerking in een lopende band. Één of meerdere kenmerken van de elektrostatische klem worden gemeten en met de bekende kenmerken van een verwijzingsklem vergeleken. De vergelijking wijst op de prestaties van de klem en de projecten de prestaties van de klem in een daadwerkelijk werkend milieu. De kenmerken die worden gemeten omvatten de klemimpedantie, het huidig-voltage kenmerkend van de klem, de lokale naburige plasmadichtheid de steunoppervlakte van de klem, en het het koelen of het verwarmen tarief van de klem.
