A method of reducing the scattering losses that involves smoothing of the
core/cladding interface and/or change of waveguide geometry in high
refractive index difference waveguides. As an example, the SOI-based
Si/SiO.sub.2 waveguides are subjected to an oxidation reaction at high
temperatures, after the waveguide patterning process. By oxidizing the
rough silicon core surfaces after the patterning process, the
core/cladding interfaces are smoothened, reducing the roughness scattering
in waveguides.
Un metodo di riduzione delle perdite di dispersione che coinvolge la spianatura dell'interfaccia di core/cladding e/o del cambiamento della geometria della guida di onde in alte guide di onde di differenza di indice di rifrazione. Come esempio, le guide di onde SOI-basate Si/SiO.sub.2 sono sottoposte ad una reazione di ossidazione alle alte temperature, dopo il processo di modello della guida di onde. Ossidandosi il nucleo approssimativo del silicone emerge dopo il processo di modello, le interfacce di core/cladding è lisciato, riducente la rugosità che sparge in guide di onde.
