Gas laser apparatus emitting ultraviolet radiation

   
   

The oscillation pulse width is extended in a gas laser apparatus emitting ultraviolet radiation by a high-repetition rate oscillating operation. The gas laser apparatus has a pair of laser discharge electrodes connected to the output terminals of a magnetic pulse compression circuit and disposed in a laser chamber. The pulse width is extended by determining circuit constants so that the period of the oscillating current flowing between the discharge electrodes is shortened and, at the same time, the peak value of the current is increased, whereby the laser gas is continuously excited even during at least one half-cycle subsequent to the first half-cycle of the oscillating current to sustain the laser oscillating operation.

La anchura del pulso de la oscilación es ampliada en un aparato del laser del gas que emite la radiación ultravioleta por una operación oscilante de la tarifa de la alto-repeticio'n. El aparato del laser del gas tiene un par de electrodos de la descarga del laser conectados con los terminales de salida de un circuito magnético de la compresión del pulso y dispuestos en un compartimiento del laser. La anchura del pulso es ampliada determinando constantes del circuito para acortar el período de fluir actual oscilante entre los electrodos de la descarga y, en el mismo tiempo, el valor máximo de la corriente esté aumentado, por el que el gas del laser se excite continuamente incluso durante por lo menos un mitad-ciclo subsecuente al primer mitad-ciclo de la corriente oscilante para sostener la operación oscilante del laser.

 
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< Ridge-type semiconductor laser element

> Blower for gas laser

> Laser gas supply path structure in an exposure apparatus

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