Laser gas supply path structure in an exposure apparatus

   
   

A gas supply path structure forms a fluid path for allowing a laser gas to flow into or out of a pair of fluid inlet and outlet 11a and a laser gas is controlled to a predetermined subsonic speed at a throat portion. Gas supplies for controlling the speed of the gas are connected each to the fluid inlet and to the fluid outlet of the gas supply path structure and, together with a cooling device, compose a circulation system for controlling the speed and pressure of the laser gas at the fluid inlet and/or at the fluid outlet.

Uma estrutura do trajeto da fonte de gás dá forma a um trajeto fluido para permitir que um gás do laser flua em ou fora de um par da entrada e a tomada fluida 11a e um gás do laser é controlado a uma velocidade subsonic predeterminada em uma parcela da garganta. As fontes de gás para controlar a velocidade do gás são conectadas cada um à entrada fluida e à tomada fluida da estrutura do trajeto da fonte de gás e, junto com um dispositivo refrigerando, compõem um sistema da circulação para controlar a velocidade e a pressão do gás do laser na entrada fluida e/ou na tomada fluida.

 
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