A chemical amplification, positive resist composition is provided
comprising (A) a photoacid generator and (B) a resin which changes its
solubility in an alkali developer under the action of acid and has
substituents of the formula: C.sub.6 H.sub.11 --(CH.sub.2).sub.n
OCH(CH.sub.2 CH.sub.3)-- wherein C.sub.6 H.sub.11 is cyclohexyl and n=0 or
1. The composition has many advantages including improved focal latitude,
improved resolution, minimized line width variation or shape degradation
even on long-term PED, minimized defect left after coating, development
and stripping, and improved pattern profile after development and is
suited for microfabrication by any lithography, especially deep UV
lithography.
Una amplificación química, positivo resiste la composición se proporciona abarcando (a) un generador del photoacid y (b) una resina que cambie su solubilidad en un revelador del álcali bajo acción del ácido y tenga sustitutos del fórmula: C.sub.6 H.sub.11 -- (CH.sub.2).sub.n OCH(CH.sub.2 CH.sub.3) - - en donde C.sub.6 H.sub.11 es cyclohexyl y n=0 o 1. la composición tiene muchas ventajas incluyendo latitud focal mejorada, resolución mejorada, línea reducida al mínimo variación de la anchura o degradación de la forma incluso en PED a largo plazo, defecto reducido al mínimo a la izquierda después de cubrir, desarrollo y pelando, y el perfil mejorado del patrón después de que desarrollo y es satisfecho para el microfabrication por cualquier litografía, especialmente litografía UV profunda.
